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Die Kombination von Plasmanitrierung und plasmagestützter Schichtabscheidung aus der Gasphase (PACVD) in einem Verfahrensablauf Daniel W findet sie in dem Fundstellen­Die vorliegende Arbeit entstand whrend meiner Ttigkeit als wissenschaftlicher Mitarbeiter am Institut fiir Industrielle Fertigung und Fabrikbetrieb (IFF) und am Fraunhofer Institut fr Produktionstechnik und Automatisierung (IP A), Stuttgart. Zum Dank fr den Rckhalt whrend des Entstehens der Arbeit widme ich das Buch meiner Familie. Fr ihre Untersttzung und ihr Verstndnis danke ich ganz besonders meiner Frau Nicola. Mein Dank gilt Herrn Prof. Dr. Ing.